应用案例
APPLICATION
光通讯行业里，光模块（TOSA/ROSA/硅光）、光纤接头（LC/SC/MPO）、波导器件的插入损耗（IL）和回波损耗（RL）对表面清洁度极度敏感——接头端面、硅光芯片、透镜组哪怕附着纳米级指印、切割碎屑、有机脱模残留，都会让IL偏高、RL不达标，最终表现为客户端传输不稳、误码率上升。研成工业YJ-P宽幅等离子清洗机（氩氧）款以Ar/O₂为工作气体、RF 13.56MHz激发产生辉光等离子体幕，宽幅可达800mm，直接嵌入光器件产线，是光通讯前处理的适配机型。
6G毫米波/太赫兹器件纳米级有机残留致介电损耗？解析低温研洁真空等离子设备机理，附YJ-PV 80L RF参数与研发线数据。
5G基站天线PA/滤波器/壳体粘接脱胶致信号反射？解析研洁等离子活化机理，附YJ-F/YJ-P三轴参数与天线厂实测数据。
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