应用案例

APPLICATION

研洁真空等离子处理机去除BGA/COB封装焊盘氧化物


芯片粘接前处理、BGA封装、COBCOGCOFLED——去除表面油性污垢和有机污染粒子"。这几个场景的共性痛点是:封装基板焊盘(OSP/ENIG)在仓库存储中会生成Cu₂O/CuOSMT贴片时焊膏不浸润,导致BGA焊球虚焊、COB金线脱焊、COG ACF导电胶接触不良。研成工业YJ-PV在线式研洁真空等离子处理机(4流道)可直接对接SMT编带线,是封装中段的主流干式方案。

研洁等离子处理焊盘

 

一、封装场景的污染特征

封装形式

焊盘类型

主要污染

失效表现

BGA

ENIG/OSP

Cu₂O+有机残留

焊球不浸润、X-ray空洞

COB

Al pad / Cu pad

切割碎屑+指纹

金线脱球、IMC不均

COG

ITO/金属

有机残留

ACF阻抗偏高、显示亮线

LED

支架Cu / Ag

硫化+氧化

死灯、光衰

 

二、YJ-PV在线式研洁真空等离子处理机参数(封装中段)

项目

规格

等离子电源

600W / 13.56MHz RF

腔体容积

14L540×320×70mm

流道

4通道(可定制)

UPH

350-750 pcs/h

气体

Ar/H₂(还原)或 Ar/O₂(除有机)

真空泵

TVP干泵

伺服

松下/汇川/三菱/鸣志

对接

编带进料等离子编带出料,可连MES

在线真空等离子清洗机

 

三、产线实测(华南某封测厂,BGA 0.8mm pitch

指标

未清洗

YJ-PV在线式处理后

焊盘表面达因值

36 mN/m

>72 mN/m

焊锡接触角(SAC305

52°±6°

18°±3°

BGA X-ray空洞率(>5%占比)

4.1%

<0.2%

推球强度(Shear

基准

提升约85%

离子污染(NaCl当量)

1.1 μg/cm²

<0.2 μg/cm²

数据基于研成工业研洁等离子实验室及合作封测客户产线实测整理,为典型改善区间,非承诺值。

四、FAQ

Q1: BGACOB能用同一台设备吗?

A: 能。YJ-PV在线式流道可按产品尺寸定制托盘,BGA走编带流道、COB走载板流道,配方切换即可(Ar/H₂还原 vs Ar/O₂除有机)。

Q2: OSP焊盘处理时间要控制吗?

A: 要。OSP膜厚仅0.2-0.5μmAr/H₂处理建议<90s、功率<600W,避免过度还原破坏OSP,量产前做可焊性验证。

Q3: 和在线常压等离子比怎么选?

A: 封装焊盘对洁净度要求极高(离子污染<0.3μg/cm²),真空腔无氧环境下还原更彻底,优先真空;如果只是COG ACF表面活化、对离子污染不敏感,可考虑常压YJ-P宽幅。

封装段的"干式在线式研洁真空等离子处理机前处理"已是国内封测厂的标准工艺节点,研成YJ-PV在线式研洁在线式真空等离子处理机可对接SMT编带线,实现不降速的inline清洗。