应用案例

APPLICATION

研洁真空等离子清洗机去除Cu₂O氧化层工艺解决引脚虚焊问题


无源元件与IC器件仓储过程中,引脚表面会生成Cu₂O/CuO氧化层及编带胶残留。传统预热+免洗助焊剂在细间距BGA、COB场景下,难以解决焊锡不浸润导致的虚焊与X-ray返修问题。研成工业研洁YJ-PV腔体式真空等离子清洗机采用Ar/H₂+O₂多路气体组合,是引脚清洗的干式解决方案。

 

一、虚焊的微观链条Cu₂O
(引脚Cu₂O+ 有机残留 焊锡接触角↑ → 不浸润 虚焊/冷焊 → AOI/X-ray检出)

氧化层仅数nm,但足以让SAC305焊锡接触角从<30°飙至>50°。

研洁真空等离子清洗电子元器件

 

二、研洁真空等离子清洗机理

YJ-PV 80L采用英福康(Inficon)/爱发科(ulvac)真空计 + Warwick质量流量计 + BSV60真空泵(可选干泵),工艺可追溯。

项目

RF款

MF款

等离子电源

600W / 13.56MHz

2000W / 40KHz

腔体容积

80L(490×340×490mm)

同左

有效处理面积

402×300 mm

同左

托盘层数

8层

同左

气体通道

2路(Ar/H₂、Ar/O₂可选)

同左

流量范围

0-200 sccm

同左

机理:Ar⁺物理轰击剥离CuO纳米层;H₂自由基低温还原(CuO+H₂→Cu+HO),不伤引脚镀层;O₂自由基分解编带胶与指纹油脂→CO+HO

研洁真空等离子清洗机

三、产线实测(华东无源元件厂,0603/0402电阻)

指标

未清洗

YJ-PV 80L清洗后

引脚氧化层

XPS可见

无明显氧化物

焊锡接触角

48°±6°

18°±3°

虚焊率(AOI+X-ray)

4.2%

<0.3%

离子污染(NaCl当量)

1.2 μg/cm²

0.25 μg/cm²

 数据基于研成工业实验室及合作元件客户产线实测整理,为典型改善区间,非承诺值

四、FAQ

Q1: 0603/0402小料会被吹飞吗?

A: 真空腔内无气流扰动,篮具固定;QFN或晶圆级建议用YJ-PV 100L八宫格款。

Q2: Ar/H₂比例怎么设?

A: 氧化严重(库存久、发黑)走Ar:H₂=4:1(sccm级标定);偏有机残留走Ar:O₂=9:1先除有机再H₂还原,可两段式配方。

Q3: 能对接SMT编带线吗?

A: 量大建议YJ-PV在线式,流道4通道可定制,UPH 350-750pcs,编带进料—等离子—编带出料全自动。

在元件微型化与汽车电子高可靠性要求下,引脚清洗已从"可选项"变为"必选项"。研成工业YJ-PV真空等离子清洗机系列已在华润微、华勤、深南电路、TDK等客户产线验证。