宽幅Plasma处理设备(氬氧)以氬氧（Ar）作为主要工作气体，通常辅以氧气或氮气作为反应气体，通过RF射频（13.56MHz）激发产生辉光式等离子体幕，直接作用于材料表面进行大面积均匀清洗与活化处理。根据工艺需要，可选用氩气/氧气组合用于非金属材料高效处理，或氩气/氮气组合用于含金属区域的处理，也可只采用纯氩气。
低温Plasma清洗机是利用射频电源在真空或大气条件下产生低温等离子体，通过活性粒子（离子、电子、自由基等）对材料表面进行物理轰击和化学反应，实现清洗、活化、刻蚀及表面改性的设备。其处理温度可低至40℃左右，能有效保护热敏材料不受损伤，同时等离子体可进入超细狭缝进行全方位清洗。
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